30亿元/台!全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺:中国厂商不可能买到

内容摘要快科技7月17日消息,光刻机龙头ASML现在宣布,全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。按照官方的说法,EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本,首台买家是英特尔,一台售价

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快科技7月17日消息,光刻机龙头ASML现在宣布,全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。

按照官方的说法,EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本,首台买家是英特尔,一台售价近30亿元。

相比初代High NA EUV光刻机EXE:5000来说,EXE:5200拥有更高的晶圆吞吐量(EXE:5000为每小时185片以上),可以更好的为2nm工艺量产做支撑。

TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径,比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了,可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。

EUV 0.55 NA的设计旨在从2025年开始实现多个未来节点,这是业内首次部署,随后将采用类似密度的内存技术。

需要注意的是,这种高精尖的光刻机,ASML是不可能卖给中国厂商的,这不是钱的问题,而是其他因素。

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责任编辑:雪花

 
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