三星电子与约翰霍普金斯大学应用物理实验室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷却技术的进展。Peltier器件通过利用珀尔帖效应进行冷却，其中向半导体施加电流会导致一侧冷却，而另一侧会升温。由于这种方法不依赖制冷剂，因此它正在成为传统冷却系统的一种有前途的环保替代方案。
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通过首次利用新开发的薄膜 Peltier 半导体器件，并通过先进的纳米工程技术进行增强，研究团队成功创造并展示了高性能 Peltier 制冷机。
这种薄膜 Peltier 制冷机的冷却效率超过了传统蒸汽压缩系统的冷却效率，为下一代无制冷剂制冷机的商业化铺平了道路。
与传统的蒸汽压缩技术相比，帕尔贴冷却以更简单的设计提供更快、更精确的温度控制，使其适用于广泛的行业，包括家用电器、半导体、医疗设备、汽车电子和数据中心。
在 Peltier 半导体器件中实现卓越的冷却效率对于高性能 Peltier 冷却技术的商业化至关重要。
三星和 APL 研究团队通过引入新的薄膜半导体材料以及小型化和轻量化设计，将珀尔帖器件的效率提高了近 75%，从而实现了这一目标。
新开发的 Peltier 器件在资源效率和可制造性方面也具有显著优势。该团队证实，创新的制造工艺将所需的帕尔贴材料量大幅减少到典型体积的 1/1,000 左右，同时还简化了生产步骤。这一突破提高了可扩展性并支持大规模生产，有望在成本效益和环境可持续性方面取得重大进步。
世界上第一台采用纳米薄膜技术的
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